科技强国从升级镜头开始 - 183.第182章 救星来了！

    第182章 救星来了！
    临安，苏省大学微电子学院。
    “通入六甲基二硅胺烷……”
    “硅片脱水完成，增粘处理完成，开始旋转涂胶。”
    “……”
    这已经是他们不知道进行了多少次的实验流程了，除了操作员时不时进行流程汇报之外，实验内悄然无声。
    数十名研发人员都静静地坚守着自己的岗位，偶尔抬头看一眼设备运行情况，以及站在操控台中间的那位老人。
    “涂胶检测完毕，未发现气泡，开始曝光前烘……前烘完毕，光刻机准备曝光……”
    在实验有条不紊的推进中，终于到了曝光环节。
    每次进入曝光环节，那短短的十秒钟，都让吴利鸿感觉像一个世纪那么长……
    而在曝光的过程中，加装在工件台的的测量仪器也在同时进行疯狂的数据收集。
    “曝光结束，进入后烘环节，曝光数据正在分析中……”
    “曝光过程总产气量……”汇报结果的研究员停顿了一下，然后用颤抖的语气念出了数值，“289立方纳米！”
    哗——！
    听到这个结果，整个实验室都顿时安静了下来，随后便是阵阵惊呼声。
    “竟然真是光致产酸剂br-侧键的问题！”
    “吴院士牛逼啊！”
    “……”
    虽然后烘的具体数据还没出来，但光是这个产气量的数据，就已经称得上是史无前例的重大突破了！
    涂满12寸的硅片光刻胶，在曝光的过程中，才产出了仅仅289立方纳米的气体，
    而这么小的产气量，光刻胶的曝光边缘肯定非常光滑平整。
    这就意味着更高的清晰度，以及更低的制程。
    可以说，他们已经彻底解决了光刻胶最棘手的产气量问题！
    吴利鸿听到这个数据后，脸上也不禁浮现起了一抹如释重负的笑容，但这却让他的脸上的皱纹褶子更多了……
    过了大约十分钟，曝光后的硅片也已经完成了后烘，并对曝光部分的光刻胶进行了溶解清除，然后又进行了一次坚膜烘焙，加固光刻胶形成的电路保护膜。
    接下来，就是他们这个实验环节最重要的电路图像清晰度分析了。
    而最终的分析结果也果然不出他们所料，在降低了98%的产气量后，他们得到的电路保护膜，表面非常光滑平整，没有出现任何坍塌变形！
    “膜厚正常，套刻精度正常！”
    听到这个结果，所有人顿时都激动的看着吴利鸿。
    事实上实验进行到了这一步，已经基本可以肯定他们的euv光刻胶，已经达到了13.5纳米的制程标准。
    因为他们苏省微电子的所有精力，都用来研发光刻胶了，对多重曝光等压缩制程的工艺，没有太多的研究，所以13.5纳米只是他们研究所的最小制程工艺。
    而这款光刻胶具体的最小制程，得找申城硅产业或者立昂微来做进一步的验证，尤其是最早拿到euv光刻机的申城硅产业，经过这几个月的摸索调试，他们已经把制程工艺推到了5nm。
    不过为了稳妥起见，吴利鸿还是按捺住激动的心情，对大家开口道：“立即准备蚀刻实验验证，确认最后的环节没问题再送到申城硅产业去。”
    “明白！”
    研究员们听到后，顿时又开始忙碌了起来。
    本来按照他们之前的实验流程，实验到了这一步基本就是失败了，这次其实根本就没有做好进入蚀刻环节的准备。
    但面对这个意想不到的巨大惊喜，大家却没有一丝‘临时加班’的怨言，一个个都吭哧吭哧地开始重新准备实验。
    两个小时后，最终结果终于出炉了。
    他们研发的光刻胶，成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼，顺利完成了保护硅片基底的任务，芯片良品率高达98%！
    在吴利鸿院士的带领下，苏省大学微电子研究员，终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级euv光刻胶！
    而且这个13.5纳米制程，只是目前的初步实验结论。
    从他们这次得到的套刻精度来看，这款光刻胶实际上有相当大的可能，可以胜任5纳米制程芯片的制造！
    吴利鸿也非常沉得住气，没有选择立即将实验结果上报上去，而是让研究员们按照上次的配方，重新调配了一批光刻胶。
    然后重复做了足足十次实验，确认每次的结果误差都在可接受的范围内后，才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都，来到了申城硅产业集团。
    此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总，讨论华威p6的芯片代工问题。
    而双方讨论的要点，就是产量和成本的问题。
    华威本着量大从优的道理，想要直接订购两千万枚麒零9000。
    但申城硅产业现在，其实也就只有一台秦光一号。
    按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量，以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算，一台光刻机每天的产能应该有216万枚。
    但实际上，光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度，而是要根据不同芯片的设计，进行多次曝光和蚀刻。
    以麒零9000为例，它需要经过足足19次光刻-蚀刻循环，才能完成整个晶圆制造环节，
    也就是说，每天理论上只能造11万枚。
    这还是建立在设备24小时不停机休息和维护，以及100%良率的基础之上。
    因此实际产能，平均每天能有8万枚，就已经很不错了。
    两千万枚芯片的订单，要差不多八个月才能完成，还是把所有产能，都压榨给华威的情况下。
    何况在如此高负荷的运转下，他们光刻胶的库存，都不知道能不能撑得住……
    “……我们也得考虑成本，也要时间来研发3nm的制程工艺，希望你们也能考虑一下我们的难处。”
    陈云明实在有点受不了两位老总的软磨硬泡，最终拍板道，
    “要不就这样吧，我给你两个方案，一个是150元300万枚，一个是200元600万枚，600万是极限，已经很够意思了。”
    “呃……”
    余总立刻在心里算了一笔账。
    按照台机电5纳米制程，13400美元/片晶圆的价格来算，约等于每枚5nm制程的芯片代工费，是187元。
    但台积电的代工是按晶圆来算的，废品都给你算钱了，而陈云明刚刚报的是当个芯片价格，等于去掉了废品，所以150-200元的代工费，在这个特殊时期，确实相当厚道了。
    “可是陈总，这买卖哪有越多越贵的道理……”
    “这不是情况特殊嘛，如果在库存光刻胶消耗完之前，国产光刻胶没有动静，那我们有光刻机也没得用啊，只能先省着点了……”
    “其实还有个办法，就是伱们去找康博士借点光刻胶给我们，那小子贼精得很，早早地就让我们帮他屯光刻胶了，现在大汉芯业的光刻机屯得比我们还多！”
    每每想到这里，陈云明都有点后悔当初没有听康驰的，提前多屯点光刻胶。
    主要是，当初谁能想到他能这么快搞出euv光刻机……
    就在余总还在考虑着，六百万枚到底能撑多久的时候，陈云明突击接到了吴利鸿的电话。
    “吴院士？等等……你说什么？测试光刻胶？就到楼下了？！”
    “……”
    放下电话的陈云明，过了半响才缓过神，然后连忙打了个电话给董建元，让他下去接吴利鸿。
    处理完这些后，他才转头看向华威的两个老总，一脸激动地说道：“我们的救星来了！”
    (本章完)